晶圓切割UV解膠機
發表時間:2021-07-01 15:59:00瀏覽量:906
一、工藝背景介紹
1,UV減粘膜是一種將特殊配方膠水涂布于PO/PET等薄膜基材表面,有較高的初粘力(最高達25N/25mm),而UV照射后,粘性降低(低至0.05N/25mm以下)的薄膜。
2,UV減粘膜在半導體領域的應用
封裝制程流程圖
UV減粘膜由于涂布特殊膠水,具高粘著力,所以在切割時能以超強的粘著力粘住晶片,即使是小晶片也不會發生位移或脫落,保證晶片于研磨、切割過程不脫落,不飛散,不擴張,防止崩邊,保證加工品質。加工結束后,只要照射適量的紫外線就能瞬間的降低粘著力,即使是大晶片也可以用輕松正確的抓取而沒有殘膠污染,提高撿晶時的撿拾性.
二,設備簡介及機臺特點
設備簡介
UV LED 解膠機是專用于半導體制程UV減粘工藝。該設備有使用操作方便、性能穩定、效率高和經濟實用等優點。
機臺特點
1、產品名稱:實銳UV 解膠機;
2、產品型號:實銳UVG-200;
3、外形尺寸:L520*W490*H740(mm);
4、材質:外殼采用冷扎鋼板折彎制作;
5、UV 光源強制風冷,溫度低;
6、人體工程學操作界面,簡單明了。